半导体行业消毒处置计划

金属离子是半导体良率一大杀手，由于任何金属离子落入芯片外表，都会致使电阻率产生庞大变更，致使芯片报废。以是半导体工艺中，须要这类超纯的去离子水，来保障在工艺处置进程中，不任何离子杂质对芯片形成影响。

超纯水：指电阻率到达18 MΩ*cm(25℃)的水。这类水中除水份子外，几近不甚么杂质，更不细菌、病毒、含氯二恶英等无机物，固然也不人体所需的矿物资微量元素。

以是为了半导体的良品率必须适用超纯水和去离子水。

去除 TOC——紫外线 (UV) 体系可用于有用去除凡是被称为 TOC(总无机碳)的无机物。经由过程并入一套具备恰当设想及选型的 185nm 紫外线体系，并战略性地将其与其余装备相连系排布，从而完成 TOC 去除。

消毒——紫外光在水处置中常见的利用。微电子用水体系中典范的装配地位可以或许是碳过滤器以后、RO(反渗入)之前和以后。

去氯/氯胺消解——虽然向都会用水中增加氯和氯胺可控制细菌程度，可是它们会对过滤或RO膜的除垢形成不良影响。紫外线可在去氯的同时处置这些题目，其接纳更小的占空中积并可缩减保护本钱。

半导体行业紫外线杀菌装备装配表示图